光(guāng)學(xué)薄膜強(qiáng)度(dù)不(bù)良的産生(shēng)原因(yīn)：

基片(piàn)與(yǔ)膜层的結合。一(yī)般情(qíng)況，在(zài)减反(fǎn)膜中(zhōng)，这(zhè)是(shì)膜弱(ruò)的主(zhǔ)要(yào)原因(yīn)。由(yóu)于(yú)基片(piàn)表(biǎo)面(miàn)在(zài)光(guāng)學(xué)冷(lěng)加工及(jí)清(qīng)洗过(guò)程中(zhōng)不(bù)可(kě)避免地(dì)会(huì)有(yǒu)一(yī)些(xiē)有(yǒu)害雜質(zhì)附着在(zài)表(biǎo)面(miàn)上(shàng)，而(ér)基片(piàn)的表(biǎo)面(miàn)由(yóu)于(yú)光(guāng)學(xué)冷(lěng)加工的作(zuò)用，總(zǒng)有(yǒu)一(yī)些(xiē)破壞层，深入在(zài)破壞层的雜質(zhì)(如(rú)水汽、油(yóu)汽、清(qīng)洗液、擦拭液、抛光(guāng)粉等，其(qí)中(zhōng)水汽为(wèi)主(zhǔ)要(yào))，很難以(yǐ)用一(yī)般的方(fāng)法(fǎ)去(qù)除干(gàn)淨，特(tè)别对(duì)于(yú)親水性(xìng)好(hǎo)，吸附力強(qiáng)的基片(piàn)尤其(qí)如(rú)此(cǐ)。當膜料分(fēn)子堆(duī)積在(zài)这(zhè)些(xiē)雜質(zhì)上(shàng)时(shí)，就(jiù)影響了膜层的附着，也(yě)就(jiù)影響了膜強(qiáng)度(dù)。此(cǐ)外(wài)，如(rú)果(guǒ)基片(piàn)的親水性(xìng)差、吸附力差，对(duì)膜层的吸附也(yě)差，同(tóng)樣(yàng)会(huì)影響膜強(qiáng)度(dù)。硝材化(huà)學(xué)稳定(dìng)性(xìng)差，基片(piàn)在(zài)前(qián)加工过(guò)程中(zhōng)流轉(zhuǎn)过(guò)程中(zhōng)，表(biǎo)面(miàn)已經(jīng)受到(dào)腐蝕，形成(chéng)了腐蝕层或(huò)水解(jiě)层(也(yě)許是(shì)局(jú)部(bù)的、极(jí)薄的)。膜层鍍在(zài)腐蝕层或(huò)水解(jiě)层上(shàng)其(qí)吸附就(jiù)差，膜牢固度(dù)不(bù)良。基片(piàn)表(biǎo)面(miàn)有(yǒu)髒污、油(yóu)斑、灰點(diǎn)、口(kǒu)水點(diǎn)等，局(jú)部(bù)膜层附着不(bù)良，造成(chéng)局(jú)部(bù)膜牢固度(dù)不(bù)良。

改善对(duì)策：

㈠ 加強(qiáng)去(qù)油(yóu)去(qù)污處(chù)理(lǐ)，如(rú)果(guǒ)是(shì)超聲波(bō)清(qīng)洗，应重(zhòng)點(diǎn)考慮去(qù)油(yóu)功能，並(bìng)保證去(qù)油(yóu)溶液的有(yǒu)效性(xìng);如(rú)若是(shì)手(shǒu)擦，可(kě)考慮先(xiān)用碳酸(suān)鈣粉擦拭後(hòu)再清(qīng)擦。

㈡ 加強(qiáng)鍍前(qián)烘烤，条(tiáo)件(jiàn)許可(kě)，基片(piàn)温(wēn)度(dù)能达(dá)到(dào)300℃以(yǐ)上(shàng)更(gèng)好(hǎo)，恒温(wēn)20分(fēn)鐘(zhōng)以(yǐ)上(shàng)，盡可(kě)能使基片(piàn)表(biǎo)面(miàn)的水汽、油(yóu)汽揮發(fà)。*注意(yì)：温(wēn)度(dù)較高，基片(piàn)吸附能力加大，也(yě)容易吸附灰塵(chén)。所(suǒ)以(yǐ)，真空(kōng)室(shì)的潔淨度(dù)要(yào)提(tí)高。否則基片(piàn)在(zài)鍍前(qián)就(jiù)有(yǒu)灰塵(chén)附着，除産生(shēng)其(qí)它(tā)不(bù)良外(wài)，对(duì)膜強(qiáng)度(dù)也(yě)有(yǒu)影響。(真空(kōng)中(zhōng)基片(piàn)上(shàng)水汽的化(huà)學(xué)解(jiě)吸温(wēn)度(dù)在(zài)260℃以(yǐ)上(shàng))。但不(bù)是(shì)所(suǒ)有(yǒu)的零(líng)件(jiàn)都需要(yào)高温(wēn)烘烤，有(yǒu)的硝材温(wēn)度(dù)高了反(fǎn)而(ér)膜強(qiáng)度(dù)不(bù)高還(huán)会(huì)有(yǒu)色(sè)斑産生(shēng)。这(zhè)與(yǔ)应力以(yǐ)及(jí)材料热匹(pǐ)配有(yǒu)較大的關(guān)系(xì)。

㈢ 有(yǒu)条(tiáo)件(jiàn)时(shí)，機(jī)組安(ān)装冷(lěng)凝機(jī)(PLOYCOLD)，除提(tí)高機(jī)組真空(kōng)抽速外(wài)，還(huán)可(kě)以(yǐ)幫助基片(piàn)水汽、油(yóu)气(qì)去(qù)除。

㈣ 提(tí)高蒸鍍真空(kōng)度(dù)，对(duì)于(yú)1米(mǐ)以(yǐ)上(shàng)的鍍膜機(jī)，蒸鍍啟动真空(kōng)应高于(yú)3*10-3Pa，鍍膜機(jī)越大，蒸鍍啟动真空(kōng)更(gèng)高。

㈤ 有(yǒu)条(tiáo)件(jiàn)时(shí)，機(jī)組安(ān)装離子源，鍍前(qián)轟擊，清(qīng)潔基片(piàn)表(biǎo)面(miàn)，鍍膜过(guò)程輔助，有(yǒu)利于(yú)膜层的密實(shí)牢固。

㈥ 膜料的去(qù)潮(cháo)，将待用膜料用培養皿盛放(fàng)在(zài)真空(kōng)室(shì)干(gàn)燥。

㈦ 保持(chí)工作(zuò)环(huán)境的干(gàn)燥(包(bāo)括鏡(jìng)片(piàn)擦拭、上(shàng)傘(sǎn)工作(zuò)區(qū))，清(qīng)潔工作(zuò)环(huán)境时(shí)不(bù)能带(dài)入过(guò)多(duō)的水汽。