差之(zhī)毫(háo)厘(lí)，失之(zhī)千(qiān)里(lǐ)。光(guāng)學(xué)薄膜制備作(zuò)为(wèi)精密制造領域之(zhī)一(yī)，其(qí)精密程度(dù)常常达到(dào)納米(mǐ)甚至(zhì)微納級别，因(yīn)此(cǐ)，其(qí)制備複雜程度(dù)是不(bù)言而(ér)喻的(de)，有(yǒu)时(shí)候微小的(de)失誤会(huì)導致(zhì)滿盤皆輸，为(wèi)薄膜制備带(dài)来巨大(dà)困难。

光(guāng)學(xué)薄膜的(de)制備是一(yī)个(gè)複雜的(de)过(guò)程，它(tā)是通(tòng)过(guò)将大(dà)块(kuài)固體(tǐ)材料蒸發(fà)或(huò)濺射，經(jīng)过(guò)气(qì)相傳輸，最(zuì)後(hòu)在(zài)基闆上(shàng)凝結得到(dào)的(de)，在(zài)其(qí)制備过(guò)程中(zhōng)，包(bāo)括环(huán)境真(zhēn)空(kōng)条(tiáo)件(jiàn)（真(zhēn)空(kōng)度(dù)）、蒸發(fà)速率、基闆温(wēn)度(dù)等多(duō)面(miàn)的(de)工藝因(yīn)素的(de)影響，对(duì)薄膜的(de)微觀結構和(hé)化(huà)學(xué)成(chéng)分(fēn)與(yǔ)理(lǐ)想(xiǎng)状況出(chū)現(xiàn)较大(dà)偏差，最(zuì)終(zhōng)導致(zhì)薄膜的(de)機(jī)械性(xìng)能(néng)、抗激光(guāng)損傷阈值、光(guāng)學(xué)性(xìng)能(néng)的(de)變(biàn)化(huà)。

在(zài)衆多(duō)的(de)工藝影響因(yīn)素中(zhōng)，影響最(zuì)大(dà)且(qiě)易觀察的(de)往往是薄膜的(de)厚度(dù)均勻性(xìng)，其(qí)会(huì)严重(zhòng)影響薄膜的(de)物(wù)理(lǐ)性(xìng)能(néng)，根(gēn)据制備經(jīng)验(yàn)，薄膜的(de)厚度(dù)不(bù)均勻会(huì)導致(zhì)薄膜光(guāng)譜性(xìng)能(néng)产生(shēng)较大(dà)偏移，比如(rú)，在(zài)增透膜的(de)制備过(guò)程中(zhōng)会(huì)導致(zhì)薄膜的(de)透射率偏低(dī)，其(qí)次(cì)他還(huán)会(huì)影響薄膜的(de)激光(guāng)損傷阈值、薄膜應(yìng)力等等，正(zhèng)如(rú)文(wén)头(tóu)说(shuō)到(dào)的(de)：差之(zhī)毫(háo)厘(lí)，失之(zhī)千(qiān)里(lǐ)。因(yīn)此(cǐ)在(zài)薄膜制備設備中(zhōng)，往往都配有(yǒu)精确度(dù)极高(gāo)的(de)膜厚监控系(xì)統。